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[求助] 关于表面处理的硅烷化工艺

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发表于 2010-5-19 22:14 | 显示全部楼层 |阅读模式
硅烷化表面处理代替磷化工艺,
请问有没有哪位大侠接触过此类工艺, 其特征污染物是什么呢?我怎么看来看去觉得没有特征污染物?
 楼主| 发表于 2010-5-20 11:26 | 显示全部楼层
发表于 2010-5-20 11:32 | 显示全部楼层
硅烷化工艺作用机理

硅烷含有2种不同的化学官能团,、一端能与无机材料(如玻璃纤维、硅酸盐、金属及其氧化物)表面的羟基反应,另一端能与树脂生成共价键,从而使2种性质差别很大的材料结合起来,起到提高复合材料性能的作用。硅烷化处理可描述为4步反应模型:(1)与硅相连的3个Si-OR基水解成Si-OH;(2)Si-0H之间脱水缩合成含si-0H的低聚硅氧烷;(3)低聚物中的si-OH与基材表面上的OH形成氢键;(4)加热固化过程中伴随脱水反应而与基材以共价键连接。

为缩短处理剂现场使用所需的熟化时间,硅烷处理剂在使用前需进行一定浓度的预水解。

1.水解反应



在水解过程中,硅烷间会发生缩合反应,生成低聚硅氧烷。低聚硅氧烷过少,硅烷处理剂现场的熟化时间延长,影响生产效率;低聚硅氧烷过多,则使处理

剂浑浊甚至沉淀,降低处理剂稳定性及影响处理质量。

2.缩合反应



3.成膜反应

成膜反应是影响硅烷化质量的关键步骤,成膜反应进行的好坏直接关系到涂膜耐蚀性及对漆膜的附着力。因此,硅烷化前的工件表面应除油完全。硅烷化前处理最好采用去离子水,进入硅烷槽的工件不能带有金属碎屑或其他杂质,处理剂的pH等参数控制也十分重要。



其中R为烷基取代基,Me为金属基材。

成膜后的金属硅烷化膜层主要由2部分构成:一是硅烷处理剂在金属表面通过成膜反应形成金属硅烷复合膜,二是通过缩合反应形成大量低聚硅氧烷,从而形成完整硅烷膜。金属表面成膜状态微观模型如图1.所示。



图1硅烷化成膜微观状态

Figure l Microstate of shanked films
发表于 2010-5-20 11:33 | 显示全部楼层
典型硅烷处理使用方式

硅烷处理的典型工艺列于表6。所列工艺均可在常温下进行,pH 5.0~6.8,采用浸泡、喷淋或滚涂的处理方式,槽体材料可用不锈钢、玻璃钢或塑料。

表6典型硅烷处理工艺

Table 6 Typical process of sHane treatment
发表于 2010-5-20 11:34 | 显示全部楼层
发表于 2014-2-21 16:39 | 显示全部楼层
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发表于 2019-8-14 17:06 | 显示全部楼层
这不是还是没有说清楚吗,链接点进去都没有内容.......
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